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      產品資訊

      0.95%F2/1.25%Kr/Ne ( KrF) 準分子雷射混和氣


      晶呈深入所熟悉的半導體產業原物料市場進行分析,發現特殊氣體是半導體等電子產業關鍵原物料之一,因此,投入大量資源,開發出特殊氣體關鍵精餾技術。在進行技術開發時,將研發人員分成流體力學、熱場、自動化、微量分析等小組,終於成功將乾式化學品精餾技術應用在特殊氣體製造,並獨創三切式(3-Cut)精餾設計,產出超高純度特殊氣體,應用於半導體先進製程。晶呈目前更是全球少數擁有特殊氣體合成、純化、混氣、超高純度轉充填、微量分析、特殊部件設計組裝全製程六段製造技術! 有了成功經驗,晶呈將持續開發更多特殊氣體項目精餾技術,實現技術自主,產品多元化目標!

      產品資訊

      產品說明
      0.95%F2/1.25%Kr/Ne ( KrF) 準分子雷射混和氣
      產品應用
      在半導體黃光微影製程中所使用的重要氣體 準分子雷射散發的紫外光,擁有高光子能量以及非常高的尖峰功率。
      適用於半導體EUV and DUV 的昂貴設備使用
      產品特點
      超高純度與品質穩定性優於市面, 且其掌握獨完整六段製程技術 可以完全應用於不同客戶的需求與規格獲得品質100%掌控與穩定性的絕佳掌握度, 加上產地直銷與原物料掌控力度對於貨源與原廠認證模式擁有充分的物料控制力度與供貨穩定性的優勢, 因此所有產品皆獲得全球各大廠商與先進製程使用廠家的青睞與信任

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          品牌简介

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